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还是光刻胶！以日为鉴，当前我国光刻胶适逢机遇（附股）
2020-06-04 09:08:25 来源：
今天趁市场火热，主要通过梳理海外光刻胶行业的发展，尤其日本光刻胶行业在起步较晚的情况下，成为后起之秀的过程，结合半导体产业链的转移，继续谈一谈其中的逻辑。
01 光刻胶发展史
1839年苏格兰发明家曼戈·庞东发现了重铬酸盐明胶的感光潜力，他借助重铬酸盐明胶开发了世界上第一套“光刻系统”。
上世纪50年代贝尔实验室尝试开发全球首块集成电路的过程中，重铬酸盐明胶制成的半导体光刻胶由此诞生。
对于当时的初代光刻工艺来说，重铬酸盐明胶的分辨率已足够，但抗蚀性能不佳，无法充分阻止氢氟酸对硅片的刻蚀。
为解决这一问题，贝尔实验室找到柯达公司，柯达首先开发了新型光刻胶体系，其产品以KPR商品名称来供应市场。
由此可见，整个半导体行业起源自美国，柯达公司的KPR光刻胶可谓半导体光刻胶的改良之作。
直至上世纪80年代，美国IBM仍然在光刻胶的开发中遥遥领先。
02日本的赶超
日本企业直至1995年才实现了光刻胶的商业化，落后IBM十余年时间。
其中的大背景是，虽然IBM虽然率先突破了KrF光刻胶，但在市场开拓方面却进展缓慢。
在这样的环境下，日本企业抓住机会！
日本光刻机企业尼康、佳能同时从上世纪70年代年开始分别复制美国光刻机龙头的产品，并在1978-1980年陆续实现销售。两者在步进式光刻机的研发中奋起直追，在1985年前实现了步进式光刻机的销售。
由于性能优异，尼康在步进式光刻机的销量、销售额1984年就追平了GCA并在1985年实现反超。
由于在i线光刻技术上的落后，日本厂商集中精力研发下一代KrF光刻机试图弯道超车，此时美国龙头IBM还在1986年大滑坡的重创中无法自拔。
80年代末，美国三巨头几乎完全被尼康、佳能所取代。在KrF光刻机上的领先理所当然的使日本企业的KrF光刻胶具备优势。
03中国的机遇
全球半导体产业链自诞生至今共发生了3次较大规模的转移，分别是战后由美国到日本的转移；上世纪80年代后由美日到韩国、中国台湾地区的转移；以及2015年至今仍在进行的从全球至中国大陆的转移。
以日为鉴，当前我国光刻胶适逢机遇：
首先，近年来的中美贸易摩擦、日韩贸易摩擦及新冠肺炎疫情使半导体产业链的全球化分工遭遇了前所未有的挑战，行业对供应链安全性的关注度大幅提升，这一方面有利于我国包括光刻胶在内的半导体材料厂商在国内晶圆厂的放量验证，另一方面中国大陆以外的顶尖晶圆厂出于供应链安全的角度也会给予新兴材料厂商验证机会。
其次，半导体及上游材料、设备国产化的大趋势下，光刻胶作为技术门槛最高的半导体材料，获得技术、政策上的支持也是合乎逻辑的。
最后，看一下技术突破。晶瑞股份在2019年年报中表示，苏州瑞红完成了多款i线光刻胶产品技术开发工作，并实现销售，取得扬杰科技、福顺微电子等国内企业的供货订单，并在士兰微、中芯国际等知名半导体厂进行测试；高端KrF光刻胶处于中试阶段。
北京科华（未上市）完成了紫外正性光刻胶、集成电路用高分辨G线正胶、I线正胶、KrF深紫外光刻胶的产线建设和量产出货，客户包括中芯国际、士兰微、华微电子、三安光电、华灿光电等。
04 结论
综合来看，国内光刻胶企业乘着半导体产业链国产化的大趋势，与国内晶圆厂开展紧密合作，逐步追赶和突破与国内IC制造工艺相匹配的光刻胶，绕开海外专利实现批量供应，为企业带来稳定的现金流，同时提前布局国内晶圆厂的下一代工艺，形成半导体工业正常的技术迭代节奏。
在这样的大背景之下，市场憧憬我国的光刻胶也可以弯道超车，股市中的光刻胶品种，除开头的公司，江化微、广信材料、福晶科技也能迎难而上，填补国内空白。
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